超大规模集成电路先进光刻理论与应用

书籍推荐 · 发表于 2024-12-22 17:03:10

超大规模集成电路先进光刻理论与应用
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制
造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每
两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包
括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进
集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的
技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的，
希望能对读者有所启发。

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书籍推荐 · 发表于 2024-12-30 08:18:39

珍惜生命，果断回帖；酌一杯清茶，品一起下吧资源

书籍推荐 · 发表于 2025-1-17 14:57:53

這麼好的帖子都沒有人頂！d=====(￣▽￣*)b，我來多頂頂樓主

书籍推荐 · 发表于 2025-1-27 14:59:09

确实是难得好帖啊，讓我涕流滿面，頂頂一起下吧先

书籍推荐 · 发表于 2025-1-30 09:58:15

我帶著醬油瓶路過一起下吧的，還是忍不住小手一抖！

书籍推荐 · 发表于 2025-1-31 18:16:50

這個資源非常需要，支持一起下吧！