安捷伦 7500cs ICP-MS测定半导体级磷酸中痕量金属杂质应用

仪器资料 · 发表于 2018-8-31 15:11:14

安捷伦 7500cs ICP-MS测定半导体级磷酸中痕量金属杂质应用
采用新型高灵敏度碰撞/反应池电感祸合等离子体质谱
(ICP-MS)测定了半导体级磷酸中的金属杂质.将85%
(W/W)磷酸(H3PO4)稀释100倍，安捷伦7500cs ICP-MS
仪器分析了磷酸规范和指南(SEMI C36-0301)中所规定的所
有元素，该仪器采用可消除多原子离子干扰的八极杆反应池系
统(ORS)为特色的。通过在碰撞/反应池内加入简单的气体，
如氢气成氦气，可以容易地消除所有等离子体本身和样品基体
所产生的多原子离子对诸如Ca, Fe, Ti, Co, Ni, Cu和Zn
等目标元素的干扰，同时对那些不采用池气体模式测定的其它
所有元素仍保持很高的灵敏度。安捷伦7500cs所具有的屏蔽
炬系统(STS)和新的离子透镜系统对样品中所有元素具有卓
越的信号/背景比，从而得到杰出的方法检出限((0.06-28ppt),
0.85比PO冲50ppt多元素标准加入所得到的优秀回收率证
明了安捷伦7500cs ICP-MS测定磷酸中SEMI所规定的痕量
元素的适用性和准确性。

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