Agilent 7500 系列 ICP-MS的高基体样品引入（HMI）附件的性能特点

仪器资料 · 发表于 2017-6-10 16:22:55

高基体样品中多种痕量元素的测定一直是一个困难的分析挑战。ICP 光学发射光谱（OES）具有优良的基体承受能力和多元素同时分析能力，但灵敏度不足，
而且易受到复杂的光谱干扰。ICP-MS 具有难以逾越的灵敏度和较少的干扰，但对可溶固体含量必须限制到大约 0.1% 或更低。
我们将 ICP-MS（以及 ICP-OES）的稳定性和其它性能对于高溶解固体的耐受能力定义为“耐用性”。在 ICP-MS 中，这种耐用性是通过测量调谐的 CeO+/Ce+ 比值来评价的，CeO+/Ce+ 比值越低意味着该等离子体越耐用。

安捷伦最先研发了许多新技术以改善其耐用性，包括一种最优化的低流速样品引入系统，该系统的炬管内径较宽（2.5 mm），采用数字驱动的 27 MHz 射频发生器。这些创新技术使 Agilent 7500 八极杆反应池系统（ORS）比其他任何 ICP-MS 都具有更好的高基体样品分析性能，CeO+/Ce+ 比值大约 1%，而其他仪器一般是 2%-3%。不过，即使拥有这些创新技术，但为了获得最佳的稳定性，仍需限制总溶解固体（TDS）。
一般来讲，这意味着样品的稀释会随之带来一些缺点，包括检出限变差，样品污染的可能性增加，制备时间增加以及废液体积增加等。

为了避免常规稀释法的这些缺点，安捷伦研发了一种处理高基体样品的新技术：“气溶胶稀释法”。这种新的高基体引入（HMI）附件将 Agilent 7500 ORS 已有的良好耐受性与气溶胶稀释方法相结合，使 7500 ORS 能够直接分析 1% 的 TDS 样品（或更高，取决于基体），消除了稀释步骤及其相应缺点。等离子体的耐受性比常规的 ICP-MS 得到显著改善（CeO+/Ce+ 降到 0.2%），大大减少了基体的抑制效应，使得 ICPMS 对高基体样品的分析结果比以往更为可靠和准确。

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