IC/5 薄膜镀层控制仪使用说明书

仪器资料 · 发表于 2017-8-14 16:41:57

IC/5 薄膜镀层控制仪使用说明书

IC/5是闭环过程控制仪主要用于PVD镀膜过程。仪器监测和控制镀膜的速率和镀层的厚度。由于石英晶体表面淀积层质量的增加，引起频率的改变来推断镀膜的速率与厚度。这个技术将传感器置于蒸发源与基片之间的路径上。传感器装有振荡的石英晶体，当镀层增厚时，频率降低。频率的变化提供确定速率与镀厚的信息，并连续控制蒸发源的功率。在用户设定要求的时间、厚度、速率、材料特性和功率限值后，仪器能精确和可重复地自动控制镀膜过程。用户通过仪器的面板操作，包括工艺参数的选用和输入。
IC/5整个系统包括主电子学单元，传感器探头和晶体接口单元（XIU），用于每个连接的传感器。这些组件整套供应，也可单独订购。
IC/5 说明书提供仪器的安装、编程、校准和主电子学单元的运行。
阅读IC/5说明书，请特别注意文中的注、注意和警告。注、注意和警告的定义在1-2页的第121节中。

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