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ttzhangr   发表于 3 天前 |栏目:书籍推荐
  • 书籍名称 :超大规模集成电路先进光刻理论与应用
  • 编著人员 : 韦亚一 著
  • 出版单位 : 隐藏内容
  • 出版时间 : 2016
  • 涉及领域: 电气机械建筑书籍
  • 推荐等级: ★★★★
超大规模集成电路先进光刻理论与应用
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制
造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每
两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包
括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进
集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于32nm节点以下的
技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的,
希望能对读者有所启发。


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