GB/T 24582-2009 酸浸取-电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质

标准资料 · 发表于 2017-6-30 17:46:40

方法原理
试样用硝酸、氢氟酸、过氧化氢和水的混合物(1 : 1 : 1 : 50) 浸取，在硝酸介质中，使用ICP/MS 不
同的分析模式测定各个金属杂质的离子计数cps ，从而检测其含量。
5 干扰因素
5. 1 在该试验方法中通常存在双原子离子、多原子离子、基体效应、背景噪声、元素间的干扰、交叉沾污
和仪器漂移。
5.2 来自取样及操作过程中试剂纯度、设备的洁净度、室内的洁净度和操作技术造成的沾污的影响应
严格考虑。该标准描述了一系列空白和控制标准，以监控和量化这些干扰。
5.3 本试验方法要求样品应具有代表性，由于表面污染物不能均匀分布在表面，因此选择的样品尺寸
和量必须能代表一批样品，如果样品尺寸太小，样品可能不能代表该批样品，导致平行样品偏差过大。
6 试剂
6. 1 去离子水:所有的水应为ASTM D5127 中描述的E-1 型或其他品质相当的去离子水。
6.2 硝酸CHN03 ) :65% ，相当于SEMI C35 中的2 级。
6.3 氢氟酸CHF) : 48% ，相当于SEMI C28 中的2 级。
6.4 过氧化氢CHzOz) : 30% ，相当于SEMI C30 中的2 级。
6.5 酸清洗混合物1 : 1 : 1 : 25)HN03 : HF: H2O2 : H 2O 。
6.6 浸取酸混合物1 : 1 : 1 : 50) HN03 : HF: H2O2 : H2O 。